Essential Macleod包含光学涂层设计和性能计算的所有要素。特别是，它将计算给定涂层设计的广泛性能参数，包括通常的反射率和透射率大小和相位，还包括颜色、超快、椭圆量，以及作为波长函数的从零到三阶导数。它将估计各层中随机误差的影响。它将改进现有的设计以提高其性能，并将合成除了要使用的材料和目标性能之外几乎没有任何说明的设计。它包括层填充密度的余量。它有强大的设计编辑器，即使是最复杂的设计也可以很容易地创建或更改。它还维护包含材料光学常数的文件。可选的增强功能添加了几乎无限范围的可能性能功能、运行表和监控曲线，并链接到薄膜显示器。该软件包是一个集成的整体，操作几乎完全由菜单控制。使用了多文档接口（MDI）。文档可以是绘图、表格、设计、材料列表等等。多文档界面意味着可以同时显示多个文档，在软件包的整个操作过程中，设计和规范都保存到各种文件中。完整的材料数据库，相关薄膜材料的光学常数信息保存在一个或多个材料数据库中的单独文件中。不仅能够改进已有的设计，也可以进行全新的设计，丰富的选项和增强功能全面提升客户使用体验！
安装激活教程
1、在本站下载并解压
2、管理员身份运行安装程序，安装目录设置
3、关闭许可窗口并在安装过程后启动应用程序。将crp32002.ngn复制到 C:\Program Files (x86)\Thin Film Center\License 或者
C:\Program Files\Thin Film Center\License
4、 将License folder文件夹复制到C:\Program Files (x86)\Thin Film Center\ or C:\Program Files\Thin Film Center\
5、以管理员身份运行macleod_v10_kg.exe，并复制keygen生成的真实“Site Key’”，管理员身份运行ckinfo+.exe并选择macleod.ckinfo，将site key复制到注册机中，回车生成Encrypting Key
6、运行程序，勾选Have site key选择
7、将Encrypting Key’复制到Site Key中，点击Validate
软件功能
一、核心的基本要素
基本麦克劳德核心是最低配置，包含所有正常的设计和分析工具。它考虑单个涂层，根据需要添加尽可能多的层，以及装配体中任意数量的表面上任意数量的此类涂层，前提是这些表面合理平行。各种表面之间的倍反射光束可能在计算中相干地相加，或者可能被认为走出系统。例如，这允许杂散光计算。表面之间的介质可以是任何种类的，甚至是滤光玻璃。
1、性能计算
核心计算包括反射率、透射率、相移（如果有意义）、色散参数（如群延迟色散）、椭圆参数以及波长方面的导数，最高可达三阶（如果相关）。所有这些都可以根据所选层的波长、频率、入射角、偏振和厚度得出。可以包括朗伯锥或高斯照明锥的影响，包括偏振，或光谱仪中的扫描带宽。如果基板是刚性的，则可以评估温度变化对性能的影响。
2、颜色计算
可计算的颜色参数包括所有常见的颜色空间、显色指数、纯度、主波长、相关色温。色块给出了颜色质量的概念。绘图包括色度图、均匀色彩空间、色相和色度相关以及用户定义的绘图。提供多种光源，包括许多标准光源以及 CIE 1931 和 1964 颜色匹配功能，但用户可以根据需要定义其他光源。可以计算导入的透射率或反射率数据的颜色参数作为波长的函数。它们也可以被指定为改进的目标。
3、设计和分析工具
工具包括导纳图、电场分布、Herpin 等效值、吸收分布、应力、光散射、性能包络、非偏振边缘滤波器设计和感应传输。
4、提取工具
薄膜和厚基板的光学常数都可以从光谱数据中得出。
5、逆向工程
逆向工程工具分析沉积循环中涂层的性能，这些沉积循环以某种方式未能达到所需的性能。
6、公差
在一个简单的工具中，可能会在层厚度中引入随机误差，以评估生产的公差，而其他工具则提供层灵敏度感。[注意：实际模拟涂层生产的更高级工具是模拟器增强，单独描述。
细化和合成 提供了五个细化工具和两个合成
工具。层可以锁定或链接（层链接是一种更高级的分组形式，其中可能关联非连续层），并且堆积密度可以包含在单纯形细化形式中。可能会引入许多不同的约束，包括所选材料的总厚度。还可以精炼和合成多种涂层。上下文允许使用敏捷材料。
7、绘图和表格
正态图、活动图（可以立即看到参数变化的影响）和三维图都可用。正态图是自适应的，即区间根据结果中的细节而变化。这忠实地追踪了即使是紧密的边缘，而无需用户付出任何努力。用户定义的模板允许立即更改打印样式，例如，可以将相同的打印但具有不同的样式首先复制并粘贴到Microsoft Power Point 幻灯片中，然后粘贴到 Word 中的文档中Microsoft最后粘贴到 Microsoft Publisher 中的新闻快报中。
报告 功能强大的报告生成器使用用户定义的模板自动生成多页报告，其中可能包括设计、性能、材料和其他细节的许多不同方面。
8、导入和导出
剪贴板完全支持导入和导出数据，并且是与其他应用程序共享数据的推荐方法。还有许多其他技术可用。对于某些指定的光学设计应用，包括ZEMAX，Code V，FRED，VirtualLab，还有特殊设施。
9、单位
单位可以是用户希望的任何内容，只要它们与 SI 单位成比例。默认波长和频率分别为nm和cm-1，但根据提供，程序可以快速切换到m和cm-1，Å和eV，或nm和GHz。其他单位可以由用户轻松定义。
10、操作
操作几乎是直观的。例如，要合并两个图，请将一个图拖到另一个图上。要添加表列的绘图，请将该列拖到该绘图上。在绘图中单击鼠标右键以编辑其详细信息。工具栏可以由用户自定义并放置在应用程序窗口中的任何位置。可以更改或添加图标。
11、限制
除了计算机的固有容量和用户的耐心之外，设计中的层数和材料中的波长点数等参数几乎没有限制
二、运行表增强
运行表增强功能通过生成必要的监测信号序列来帮助涂层的制造。它由两个工具组成，一个是记录特定机器详细信息的机器配置编辑器，另一个是计算适合给定机器的监控信号并导出它们的运行表编辑器。特殊的导出格式可通过监控链接获得。
1、机器配置
包含要使用的特定机器、监控系统、入射角、材料、光源、监控芯片、工具因素（包括随源耗尽而变化的动态工具因素）的详细信息，以及注释。
2、运行表
计算反射率、背反射率和透射率监测的光信号。
包括动态工具因子，可随图层的沉积而变化。
使用增益和偏移控制可以将信号数据缩放到用户定义的范围。
根据信号电平和峰峰值信号的比例生成终止指令。
可以定义每层的监控波长和带宽，或监控光谱或晶体而不是光学监控。
可以在任何阶段更换见证芯片，包括每层不同的芯片。
计算宽带监控系统的监控扫描。
拥有广泛的出口设施。
将沉积计划导出到光学和晶体监视器，并通过 Monitorlink 处理运行表计算的特殊格式和约束，以匹配特定的监控系统限制。
提供监控数据的绘图和表格，并可以自定义报告形式输出。
使修改监控参数变得简单明了，以便在实际沉积之前评估替代监测计划。
三、监控链接
Monitorlink提供了额外的软件来配置Runsheet，以便其导出的输出符合给定沉积控制器的需求。由于兼容性问题，建议在基本麦克劳德中只激活一个监控链接。在大多数情况下，必须存在运行表，监视器链接工具才能运行。
该操作取决于特定的监视器链接。可能需要根据特定控制器的规则安排约束运行表。Monitorlink工具可以简单地创建一个正确格式的文件，以供给定控制器读取和理解。有时也可以将控制器文件读回基本麦克劳德。在其他情况下，Monitorlink可以通过直接与控制器通信的实用程序进行补充。
四、拟器增强
模拟器增强是生产过程的蒙特卡罗模型。运行表增强功能生成的运行表提供了沉积说明。然后，模拟器应用光信号中的噪声、石英晶体监测中的错误、波长设置问题、工具因子变化、温度效应等功能，并执行给定数量的模拟生产运行。对结果的检查允许研究公差，评估实际生产中可能的成功，以及研究任何怀疑导致特定过程困难的参数。可以包含各种自动监控系统。它可以调用功能增强中的脚本来模拟特殊控制功能，例如宽带监控或单点监控，具有允许对几乎任何类型的控制器进行建模的特殊功能。
五、虚拟堆栈增强
vStack增强功能将涂层和表面组装到表面不一定平行的光学系统中。唯一的约束是它们的法线必须是共面的。这使得可以计算、分析和设计各种光学组件，包括棱镜系统，例如分色棱镜。由于此类系统通常具有多个交互路径，并且必须同时进行优化，因此包括一个协同优化工具，其中可以同时优化许多vStack。在大多数情况下，这将是通过同一光学系统的不同路径，但该工具可以处理更广泛的问题，例如，必须在不同系统中的不同基材上以不同的入射角范围使用单个涂层的问题。这可能是核心模块中上下文工具功能之外的问题。该工具包括偏振泄漏，这在投影显示器的彩色棱镜组件中很重要，在电信组件中很重要，例如群延迟色散。例如，可以在vStack中对密集波分复用系统中使用的窄带滤波器阵列进行建模。在这种情况下，我们看到V形过滤器的模型及其性能。
假设光由通过系统追踪的光线组成，该射线被各种表面反射或透射，这些表面可以在仪器平面上以任何角度涂覆和倾斜。由于光线有多个表面，有时反射，有时传输方向变化很多，因此vStack中的术语吞吐量取代了更常见的反射率或透射率。吞吐量计算遵循一束通过系统。用户只需指定表面的顺序，定义表面法线的各种角度，应用任何必要的涂层，并指定每个表面的反射率或透射率。vStack负责计算通过系统的所有入射角。可调节的光束角度允许在不改变vStack的情况下改变光束方向。光学系统几乎总是包含一些倾斜的表面，因此表现出偏振灵敏度。因此，计算椭圆项ψ和。选择ψ和是因为它们不依赖于表面之间的绝对距离。
几何形状确保局部入射平面始终与仪器平面重合，这意味着p偏振光和s偏振光不会混合。如果光束方向通过倾斜角度倾斜出仪器的平面，这将不再是正确的。一些最初是s偏振的光最终会以p偏振的形式从系统中出现，而一些p偏振的光会以s偏振的形式出现。我们称这种效应为偏振泄漏，二阶它与偏斜角的平方成正比。因此，我们有一个新的性能参数，极化泄漏系数来描述这种效应。镀膜设计确实会影响偏振泄漏系数，尽管不能在一定程度上影响反射率或透射率，因此它是一个可细化的参数。
简单的vStack计算仅涉及一个光束。然而，许多系统包括单个甚至多个分束器。为了优化此类系统的性能，引入了一种称为核心改进的过程。在这里，可以使用单个公共优点函数同时优化多个vStack。这些不同的vStack可能只是单个系统的简单版本，每个版本都有不同的光束路径，甚至可以是完全独立的系统。
可以想象，设置一个复杂的vStack，其中表面以不同的角度倾斜，光束在某些地方反射，并由其他人传输，可能是一项艰巨的任务。错误地排列表面可能相当容易，以便光束可能会在不正确的一侧撞击它或完全错过它。为了使vStack规范更加简单，提供了图形布局工具。这将自动绘制vStack布局，显示光束通过系统的路径以及各种表面的方向。使用此工具使vStack的构建变得非常容易。
六、功能增强
函数几乎无限制地扩展了基本麦克劳德计算的范围。函数有两个主要工具。一种是简单的宏语言，它对Essential Macleod表中的数据进行操作。另一种是功能强大的脚本语言，它是BASIC的一种形式，可以将Essential Macleod中的大多数实体作为对象调用。
宏形成一个可以保存和调用的操作。操作将数据数组作为简单变量处理，并完全自动执行所有必要的插值。操作具有创建黑体源的能力，从公式（如柯西）中为材料推导n和k数据，轻松计算平均值或峰值性能等数量，对数据应用不同的缩放规则等。宏编写起来非常快速和容易，并且有有用的内置调试工具，但可能的范围和复杂性是有限的。
脚本比操作强大得多，但编写起来更复杂。脚本可以将基本Macleod中的大多数实体作为对象调用，并且可以在相应的“工具”菜单中插入运行它的命令。存在两个功能强大的编辑器，一个用于BASIC脚本，另一个用于允许用户与脚本交互的对话框，就像它是软件包的内置部分一样。
脚本还与支持OLE的外部程序（如Microsoft Word）兼容。提供了各种预先编写的脚本，并附有帮助文件。它们包括用于创建新来源的脚本，用于估计污染敏感性，用于根据各种模型创建纳米复合材料，用于计算OLED的特性，用于检查涂层表面的三维集合，用于不均匀性对表面图形的影响等等。
设计对象方法包括访问设计的品质因数，因此，例如，可以轻松地将其他综合例程作为脚本引入。还可以编写脚本来替换实际的优胜率计算，以便可以创建标准包中没有的特殊优胜函数。
七、DWDM助手
DWDM助手消除了多腔滤光片设计过程中的痛苦和乏味，特别是那些用于密集波分复用的滤光片。DWDM助手采用所需的规范，并使用对称周期的方法生成一组候选设计。候选设计的属性以多种用户指定的方式显示和排序，例如总层厚度、沉积时间和纹波性能。
DWDM助手使用的对称周期技术通过纹波优化算法得到增强，该算法添加了仅由四分之一波层组成的结构，以减少通带中的纹波。一般来说，许多设计将满足滤波器的给定要求，但DWDM助手可以根据关键标准彻底检查和排名候选设计。
使用帮助
双击Essential Macleod图标，程序将开始加载。最初的屏幕是空白的，有四个菜单，文件，工具，选项，帮助。
选择“文件”菜单。它有几个部分，但第一部分包含四个主要项目，新的、开放的。。。，打开材料。。。，打开基板。。。和Open Function…。
选择“新建”。菜单项末尾的符号表示有一个子菜单。项目的数量取决于配置，但会有几个，前四个是设计、材料、光学常数和表。
选择“设计”以使用新设计打开“设计”窗口，此时将显示默认设计。默认设计而非空白设计的理念是初始化所有必要的参数，这样计算就可以毫无问题地进行。默认值的详细信息可以由用户按照手册稍后的描述进行设置，但如果这仍然是第一次使用包装，则默认值将是简单的单层涂层。
设计窗口顶部的标题是Design1。这是此设计的默认名称，如果未更改，将是存储设计的设计文件的名称。接下来，在标题的正下方，是入射角。这是入射光的方向和涂层表面法线之间的角度，以度为单位测量。这里我们输入了零，所以我们处于正常入射角。
参考波长如下所示。这是510nm。在正常提供程序的初始配置中，所有波长都以nm为单位。我们稍后将详细讨论波长单位，但目前我们保留nm。接下来将显示实际设计以及入射介质和衬底。整个包中使用的默认约定是，偶发介质在设计表中处于最高位置。基质是出射介质，位于底部。层从入射介质到衬底依次编号，使得最靠近入射介质的层编号为1，并在入射介质之后立即列在表的顶部。其他层，如果有的话，按照顺序一直到基底。列依次标记为“层”、“材质”、“折射率”、“消光系数”、“光学厚度”和“物理厚度”。图层列出图层的参考编号，或指示入射介质或基板。接下来的三列提供了关于各种材料、名称和光学常数的信息。由于我们处理的是色散材料，折射率和消光系数的值是在参考波长l0（目前为510nm）下的值。接下来是光学厚度。这是nd/l0，其中n是折射率，d是物理厚度，l0是参考波长。0.25表示在参考波长处的四分之一波长层。[还有其他显示层厚度和其他一些层属性（堆积密度、锁定和链接）的选项，这些选项目前是不可见的，我们稍后会考虑。]因此，这种设计是空气中玻璃上510nm Na3AlF6（冰晶石）的四分之一波，可以称为抗反射涂层。让我们检查一下性能。
从性能菜单中选择绘图。将显示一个名为“Design1:Transmittance”的新窗口。涂层的透射率相对于400nm至700nm的波长绘制。
到处的透射率都很高。由于这是一种抗反射涂层，反射率可能是更适合绘制的参数。
活动窗口是绘图，因此当前菜单栏引用它。因此，我们必须使设计窗口处于活动状态，以便菜单栏显示设计菜单。要执行此操作，请将鼠标光标放在设计窗口的任何可见部分上，然后单击，或使用Windows菜单。设计窗口应位于前面，表明它处于活动状态。
然而，在我们改变情节之前，让我们确信两个情节可能共存。选择“选项”菜单，然后选择“常规…”。。。将出现“基本Macleod选项”对话框。单击Windows选项卡。在该选项卡中有一个标记为“保持旧绘图和表格显示”的复选框。如果尚未选中此框，请选中它。稍后，您可能希望取消选中此框，以自动减少桌面上的混乱。
现在选择参数菜单和项目性能。。。将打开以下对话框窗口。请注意，某些参数仅适用于水平轴或垂直轴的某些选择。那些不适用的显示为灰色。
我们需要反射率，因此单击“垂直轴”选项卡，然后将性能设置为“反射率幅值（%）”。垂直刻度列为“绘图20”的“最大值100”、“最小值0”和“间隔”。已选中“自动缩放”，因此将重新缩放绘图以适应数据。保持所有其他参数不变，然后单击“绘图”按钮。
您可以通过按住＜Alt＞键并在绘图上拖动鼠标（同时按下鼠标左键）来激活绘图上的光标。一对标记将跟随最靠近鼠标指针的曲线，曲线的（x，y）坐标显示在绘图下方的框中。
通过在“编辑”菜单中选择“清除光标”，或通过右键单击鼠标并从显示的菜单中选择清除光标，可以删除光标。
在这个阶段，删除迄今为止产生的任何不需要的情节是一个好主意。单击绘图使其处于活动状态，然后单击右上角的关闭框。不要接受保存绘图的邀请。
现在将鼠标放在性能曲线上，然后双击。此时会出现一个新对话框。这将控制曲线的显示。
要更改曲线的厚度，请在“宽度”框中输入一个数字，然后单击“关闭”。这将生成下面的绘图。但是，重要的是要认识到，编辑绘图只会更改绘图的参数。数据不受影响。因此，不能仅仅通过改变纵轴的标题来将数据从反射率改变为透射率。无论轴的标题是什么，反射率数据都保持反射率。
我们现在将保存该情节。将绘图作为活动窗口时，选择“文件”菜单，然后另存为…将显示“将绘图另存为”对话框。请注意，有一个快捷键F12，它会直接移动到对话框中。针对文件名键入一个。请注意，打印文件的扩展名为.npl，但不需要添加任何扩展名。
这将由软件包自动完成。然后选择“保存”。绘图将保存为文件one.npl。
选择性能。。。从参数菜单中选择。在出现的对话框中，选择“垂直轴”选项卡，然后为“打印1”选择“最大值为100、最小值为95和间隔的透射幅值（%）”。清除“自动缩放”复选框。单击绘图按钮。结果如下所示。
现在检查“窗口”菜单。它列出了已创建的各种窗口。
依次选择每个，看看它们是如何走到前面的。这是使窗口处于活动状态的另一种方法，当一个窗口被其他窗口完全遮挡时，它特别有用。
最后，从“性能”菜单中选择“表”。结果以表格形式显示。
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